Lauda Hydro 系列恒溫水浴槽
Lauda Alpha 加熱制冷恒溫器
Lauda ECO加熱制冷恒溫浴槽
Lauda PRO 加熱恒溫器
Lauda PRO 制冷恒溫器
Lauda 新一代Integral T過程恒溫器
Lauda 新一代Integral XT 高性能工藝過程恒溫器
Lauda Microcool冷卻水循環(huán)器
Lauda Variocool冷卻水循環(huán)器
Lauda Ultracool UC Mini冷卻水循環(huán)器
英諾德 INNOTEG TCS-2 加熱制冷恒溫器
英諾德 INNOTEG TCS-3 實驗室制冷循環(huán)器
LAUDA Integral P過程恒溫器
Lauda Proline Kryomate落地式制冷恒溫器
Lauda Proline 校準恒溫器
Lauda LOOP 恒溫循環(huán)器
Lauda Semistat 半導體專用工藝過程恒溫器
Lauda ECO 浸入式控制器
Lauda Kryoheater Selecta 工藝過程恒溫器
Lauda Semistat 半導體專用工藝過程恒溫器
LAUDA Semistat熱電過程恒溫器適用于 -20 至 90 °C 的半導體行業(yè)，
熱電溫度控制系統(tǒng)LAUDA Semistat為等離子刻蝕工藝提供穩(wěn)定的可重復性的溫度控制。系統(tǒng)動態(tài)地控制靜電卡盤(ESC)的溫度并可以用在刻蝕工藝中。LAUDA Semistat 熱電溫度控制系統(tǒng)設計的基礎是基于帕爾帖原理的溫度轉換， 這些原件可以實現(xiàn)快速地溫度控制，滿足了當今元器件生產(chǎn)尺寸越來越小的要求。
與基于壓縮機的系統(tǒng)相比，熱點在線使用 Semistat 溫度控制系統(tǒng)，降低能耗多達 90 %。可安裝在使用地點的地下，非常節(jié)省空間，這樣盡可能減少無塵室的使用。將過程溫度曲線控制在 ±0.1 K，從而提高晶圓間均質性。
產(chǎn)品型號：S 1200/ S 2400/ S 4400
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Lauda Semistat 半導體專用工藝過程恒溫器
低能耗，沒有壓縮機和制冷劑的系統(tǒng)
占地空間小，如果放置在地板下方則不占用Sub-Fab
導熱液體填充量低
